반도체 및 디스플레이 산업의 차세대 소자 및 공정 기술 개발을 진행하는 전문 연구 그룹입니다.

특히 박막 증착(Thin Film Deposition) 기술을 중심으로 한 핵심 소재 및 소자 연구를 수행하고 있으며, ALD(Atomic Layer Deposition), CVD(Chemical Vapor Deposition) 기반의 고정밀 박막 형성과 그 특성 평가에 대한 연구를 진행하고 있습니다.

주요 연구 분야는 다음과 같습니다:

Oxide TFT 및 Flexible Display용 소자 기술 개발

OLED 및 Micro-LED 디스플레이 공정 및 재료 최적화

반도체 금속 배선 기술(MEOL/BEOL) 및 Barrier/Liner 구조 연구

High-k Gate Dielectric 및 Passivation Layer 형성 기술

ALD 기반 Ru, TiN, Al₂O₃, HfO₂ 등 고유전/금속 박막의 증착 메커니즘 분석

jh0330@krcit.re.kr
이메일을 통한 사전 미팅 후 연구소 지원 시스템을 통한 지원

신소재 전공 및 전자소자 관련 전공자 우대

정부 출연 연구소 기준에따른 급여, 복지 혜택